Yuvarlak Molibden Ürünleri Vakumlu Püskürtme Kaplaması İçin Molibden Püskürtme Hedefi Molibden Hedefi Molibden Diski

Vakum Sputtering Kaplama için Molibden Hedefi

1Vakum püskürtme kaplamaları için molibden hedefi:

Molibden püskürtme hedefleri, yani molibden hedefleri, genellikle molibden tozuyla sinterlenir. Çoğu durumda sinterlenmiş molibden tozu olan anodun kendisinden yapılır.ve hedef anod tarafından oluşturulurAnotlar sabit veya dönen anotlar olabilir. Diğer standart yöntemler, kimyasal buhar birikimi veya yine odak döner bir anotta olduğunda,elektrolitik çökme, anod üzerinde molibden katmanının çökmesini sağlar, tüm anod yüzeyinde veya yüzeyinde bu hedefin bir parçasını oluşturmak için bir yol boyunca.

Çeşitli substratlarda, molibden püskürtme hedefleri kullanarak ince filmler oluşturabilir.Örneğin şu anda yaygın olarak kullanılan TFT-LCD (Thin Flim Transitor - Liquid Crystal Displays), ince film yarı iletken tüpü - sıvı kristal ekranları), plazma ekranları, inorganik ışık yayıcı diyot ekranları, alan emisyon ekranları, ince film güneş hücreleri, sensörler,yarı iletken cihazlar, ve uyumlu çalışma fonksiyonu ile alan etkisi transistörü kapıları CMOS (ek metal oksit yarı iletken), vb.

2. SınıflandırmaVacuum Sputtering Kaplama için Molibden Hedefi:

Molibden hedeflerinin türleri kare molibden hedeflerine, yuvarlak molibden hedeflerine, molibden plakası hedeflerine,Molibden tüp hedefleri ve özel şekilli molibden hedefleri şekillerine göreUygulama alanına göre, X-ışını molibden hedefi, molibden püskürtme hedefi ve kaplama hedefi olarak bölünebilir.Yüksek kaliteli molibden püskürtme hedefleri, yuvarlak molibden püskürtme hedefleri, dikdörtgen molibden püskürtme hedefleri, molibden püskürtme hedef tüpleri ve molibden püskürtme hedef kapağı.

Kare molibden hedefi, yüksek erime noktası, yüksek elektrik iletkenliği, düşük spesifik impedans,iyi korozyon direnci ve iyi çevresel performans.

Çeşitli substratlarda ince filmler oluşturabilen dairesel molibden hedefi, bu püskürtülmüş film elektronik bileşenlerde ve elektronik ürünlerde yaygın olarak kullanılır.

Molibden plaka hedefi, molibden plaka hedefinin ortak kalınlığı 0,090 inç ~ 3 inç'tir ve yüzeyi metallik parlaklıkla gümüş gri renktedir.3-10) (60-400) 800 veya daha fazla.

Molibden döner hedefi, genellikle silindir şeklinde yapılmış, içinde hareketsiz bir mıknatıs bulunan, çalışma sırasında yavaş bir hızla dönen bir magnetron hedefidir.

Kaplı molibden hedefi, yüksek sıcaklıklarda iyi performans, yüksek sıcaklıklarda fiziksel dayanıklılık, yüksek elastik modül dahil olmak üzere iyi özelliklere sahiptir.Mükemmel ısı iletkenliği ve korozyon direnciSonuç olarak, kaplama endüstrisinde kaplama malzemesi olarak sıklıkla kullanılır.

Molibden borusu hedefi yaygın bir molibden hedefi ürünüdür. Uzunluğu genellikle ≤3000mm, dış çapı ≤250mm, duvar kalınlığı 3-25mm, düzlüğü 0,1mm,şekli tüp şeklindedir., yüzeyi gümüş gri ve metallik bir parıltıya sahiptir.

Röntgen mamografi, mamografi tıp alanında kullanılabilir, meme muayenesinde, X ışınlı mamografi meme muayenesinde, invaziv olmayan bir inceleme aracı olarak,tüm memenin yapısını daha kapsamlı ve doğru bir şekilde yansıtabilir.

3Üretim SanatıVacuum Sputtering Kaplama için Molibden Hedefi:

Molibden hedefinin üretim süreci genel molibden ürünlerinin üretim sürecine benzer. Molibden hedefinin üretim hammaddesi, ateşe dayanıklı bir metal olan molibden tozu,Bu nedenle molibden püskürtme hedefinin hazırlanma süreci esas olarak toz metalürjisi üzerine kurulu..

Molibden hedefinin üretim süreci:

1. Yüksek saflıkta molibden tozu seçin ve soğuk izostatik presle kompakt alın;

2. Bir boru boşluğu elde etmek için hidrojen veya vakum ortamında sinterleme;

3. Çeşitli molybden hedef ürünleri, tüp boşluğundan farklı işlemlerle elde edilir. Düz hedef esas olarak dövülür ve yuvarlanır,Döner hedef esas olarak dövme ve çizimle işlenirken;

4Son olarak, bitmiş ürün, kesme, dönüşüm, cilalama vb. dahil olmak üzere ısı işleme ve işleme ile üretilir.

Ürünlerimiz hakkında daha fazla bilgi edinmek için lütfen aşağıdaki düğmeye tıklayın.