-
DavidGüzel hizmet ve yüksek kalite ve yüksek itibar ile iyi bir şirket. Güvenilir tedarikçilerimizden biri olan ürünler zamanında ve güzel bir pakette teslim edilir.
-
John MorrisMalzeme uzmanları, titiz işleme, tasarım çizimlerindeki sorunların zamanında keşfedilmesi ve bizimle iletişim, özenli hizmet, uygun fiyat ve kaliteli, daha fazla işbirliği yapacağımıza inanıyorum.
-
jorgeİyi satış sonrası hizmetiniz için teşekkür ederiz. Mükemmel uzmanlık ve teknik destek bana çok yardımcı oldu.
-
Petraçok iyi iletişim sayesinde tüm sorunlar çözüldü, satın almamdan memnun kaldım
-
Adrian HayterBu sefer satın alınan mallar çok memnun, kalitesi çok iyi ve yüzey işlemesi çok iyi. Yakında bir sonraki siparişi vereceğimize inanıyorum.
Yarı İletken Endüstrisi İçin 20mm Molibden Püskürtme Hedefleri Molibden Hedefi Molibden Diski molibden ürünleri

Ücretsiz numune ve kuponlar için bana ulaşın.
Naber:0086 18588475571
sohbet: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Herhangi bir endişeniz varsa, 24 saat çevrimiçi yardım sağlıyoruz.
xisim | Yarı İletken Endüstrisi İçin Molibden Püskürtme Hedefleri | Malzeme | Molibden ve Molibden alaşımı |
---|---|---|---|
Saflık | %99,95 | Yoğunluk | 10,2 gr/cm3 |
Kalınlık | <20mm | Çap | <300mm |
Yüzey | Cilalı | Standart | ASTM B386 |
Vurgulamak | 20mm Molibden Püskürtme Hedefleri,Cilalı Molibden Püskürtme Hedefleri,%99.95 molibden püskürtme |
Yarı İletken Endüstrisi İçin Molibden Püskürtme Hedefleri
1. Yarı İletken Endüstrisine Yönelik Molibden Püskürtme Hedeflerinin Açıklaması:
Molibden, olağanüstü mekanik özelliklere, düşük genleşme katsayısına, güçlü termal iletkenliğe ve yüksek sıcaklıklarda olağanüstü yüksek elektrik iletkenliğine sahip çok yönlü bir refrakter metaldir.Saf molibden hedefleri, molibden titanyum hedefleri, molibden tantal hedefleri ve molibden alaşımı hedefleri (TZM plakası gibi) dahil olmak üzere püskürtme hedefleri olarak kullanılabilecek çok sayıda kombinasyon vardır.
Yarı iletkenler için kullanılan malzemeler arasında oksitler veya nitrürler gibi maddelere ek olarak tungsten, molibden, niyobyum, titanyum ve silikon gibi saf metal hedefler bulunur.Mühendislerin ve bilim adamlarının kaplama süreci boyunca mükemmelleştirdiği biriktirme işletim parametreleri kadar önemli olan malzeme seçim prosedürüdür.
2. BoyutYarı İletken Endüstrisine Yönelik Molibden Püskürtme Hedefleri:
Kalınlık : <20mm
Çap: <300mm
Yüzey: Cilalı
Standart: ASTM B386
Diğer boyut müşterinin çizimine göre işlenebilir.
3. Kimyasal İçerikYarı İletken Endüstrisine Yönelik Molibden Püskürtme Hedefleri:
Nicel analiz | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Öğe | Hayır | Mg | Fe | kurşun | Al | Bi | Si | CD | CA | P | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Konsantrasyon(%) | 0,003 | 0,002 | 0,005 | 0,0001 | 0,002 | 0,0001 | 0,002 | 0,0001 | 0,002 | 0,001 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Öğe | C | Ö | N | Sb | sn | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Konsantrasyon(%) | 0,01 | 0,003 | 0,003 | 0,0005 | 0,0001 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Saflık (Metalik Taban) Mo≥%99,95 | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
Özellikler | Saf Molibden | Katkılı Molibden | Yüksek sıcaklıkta molibden alaşımı | ||
Atomik katsayı | 42 | ||||
Atom ağırlığı(m) | 95.95 | ||||
Kafes sabiti(a) | vücut merkezli küp | 3.14'10-10 | |||
Yoğunluk(r) | 10.2g/cm3 | ||||
Erime noktası(t) | 2620±10°C | ||||
Kaynama noktası(t) | 4800°C | ||||
Doğrusal genleşme katsayısı(a1) | 20°C | 5.3'10-6/K | 5.3'10-6/K | 5.3'10-6/K | |
20-1000°C | 5.8'10-6/K | 5.8'10-6/K | 5.8'10-6/K | ||
20-1500°C | 6.5'10-6/K | 6.5'10-6/K | 6.5'10-6/K | ||
Özgül ısı(u) | 20°C | 0,25J/g·K | 0,25J/g·K | 0,25J/g·K | |
1000°C | 0,31J/g·K | 0,31J/g·K | 0,31J/g·K | ||
2000°C | 0,44J/g·K | 0,44J/g·K | 0,44J/g·K | ||
Isı iletkenliği(l) | 20°C | 142 W/m·K | 142 W/m·K | 126 W/m·K | |
1000°C | 105 W/m·K | 105 W/m·K | 98 W/m·K | ||
1500°C | 88 W/m·K | 88 W/m·K | 86 W/m·K | ||
Direnç(r) | 20°C | 0,052mWm | 0,065mWm | 0,055mWm | |
1000°C | 0,27 mWm | 0,28mWm | 0,31 mWm | ||
1500°C | 0,43 mWm | 0,43 mWm | 0,45mWm | ||
2000°C | 0,60 mWm | 0,63 mWm | 0,66 mWm | ||
Radyant enerji | 730°C | 5500,0W/m2 | |||
1330°C | 6300,0W/m2 | ||||
1730°C | 19200,0W/m2 | ||||
2330°C | 700000,0W/m2 | ||||
Termal Nötron Emilimi Kesiti | 2.7'10-28m2 | 2.7'10-28m2 | 2.7'10-28m2 | ||
Çekme mukavemeti(Sb) | 0,10-8,00 mm plaka | 590~785MPa | 450~520MPa | 690~1130MPa | |
f0.80 tel | 1020MPa | 1570MPa | |||
Akma Dayanımı(S0.2) | 0,10-8,00 mm plaka | 540~620MPa | 290~360MPa | 620~1000MPa | |
Uzama(%) | 0,10-8,00 mm plaka | 3~17 | 15~75 | 2~8 | |
f0.80 tel | 1.5 | 2 | |||
Elastik Modül(E) | 20°C | 320 GPa | 320 GPa | 320 GPa | |
1000°C | 270GPa | 270GPa | 270GPa | ||
Sertlik(HV10) | <%70Deformasyon plakası | 200~280 | 240~340 | ||
>%70Deformasyon plakası | 260~360 | 300~450 | |||
Yeniden kristalleştirilmiş plaka | 140~160 | 170~190 | <200 | ||
Plastik-kırılgan geçiş sıcaklığı(T) | -40~40°C | ||||
İlk yeniden kristalleşme sıcaklığı (T) | >%90 Deformasyon plakası 1 saat Tavlanmış | 900°C | 1400°C | 1250°C | |
son yeniden kristalleşme sıcaklığı(T) | 1 tarafından tavlanmış | 1200°C | 1700°C | 1600°C |
5. ÖzelliklerYarı İletken Endüstrisine Yönelik Molibden Püskürtme Hedefleri:
Püskürtmeli kaplama, alt tabakaya geleneksel biriktirme tekniklerinden daha iyi yapışır ve molibden ve tungsten gibi çok yüksek erime sıcaklığına sahip malzemelerin püskürtülmesi çok kolaydır.Ayrıca buharlaştırma yalnızca aşağıdan yukarıya doğru yapılabilirken, püskürtme her iki yönde de yapılabilir.
Püskürtme hedefleri sıklıkla yuvarlak veya dikdörtgen şeklindedir, ancak kare ve üçgen seçenekleri de mevcuttur.Substrat, kaplanması gereken öğedir ve güneş pillerinden optik bileşenlere ve yarı iletken plakalara kadar herhangi bir şey olabilir.Kaplamanın kalınlığı tipik olarak angstromdan mikrona kadar değişir.Membran tek bir malzemeden veya katmanlar halinde istiflenmiş birkaç malzemeden oluşabilir.
Molibden püskürtme hedeflerinde yüksek saflık, yüksek yoğunluk, ince ve tutarlı tanecik özellikleri mevcut olup, püskürtme işlemi boyunca son derece yüksek püskürtme verimliliği, homojen film kalınlığı ve temiz bir dağlama yüzeyi elde edilir.

Ürünlerimiz hakkında daha fazla bilgi edinmek için lütfen aşağıdaki butona tıklayın.